나노종기원, '자기정렬 이중 패터닝(SADP)' 개발
감광제, 반사방지막 등 상용화 위한 패턴 구현 활용
나노종합기술원은 반도체 소재와 장비 개발을 지원하는 '20나노급 미세패턴 공정기술'을 개발, 반도체 기업을 대상으로 본격적인 서비스에 들어간다고 30일 밝혔다.
이번에 개발된 공정기술은 12인치 반도체 테스트 베드의 핵심 장비인 'ArF(불화아르곤) 이머전 스캐너'의 40나노 노광과 식각공정 등을 토대로 20나노 미세패턴을 구현할 수 있다. 노광장비에서 구현할 수 있는 패턴의 최소 크기 대비 절반 이하 크기로 줄이는 공정기술로, 추가 장비 투자 없이 12인치 반도체 장비를 통해 개발됐다. 특히 개발 기간 단축과 집적도를 4배 높일 수 있어 국내 반도체 소재(감광제, 반사방지막 등) 기업과 장비 기업의 서비스 수요에 대응할 수 있게 됐다.
나노종기원은 지난해 국내 반도체 소부장 기업 62개사를 대상으로 ArF 이머전 스캐너 등 반도체 장비를 활용해 40나노 공정 서비스 1226건을 지원한 바 있다.
이조원 나노종합기술원장은 "이번 공정기술은 12인치 반도체 테스트 베드 활용도를 획기적으로 높일 수 있는 성과로, 앞으로 국내 반도체 대기업과 소부장 기업 간 연계, 협력을 기반으로 반도체 강국 구현에 기여해 나가겠다"고 말했다. 이준기기자 bongchu@dt.co.kr
20나노 미세패턴 공정기술을 개발하는 데 활용된 '12인치 반도체 테스트베드'의 핵심 장비인 'ArF 이머전 스캐너' 장비 모습.
