µðÁöÅПÀÓ½º

 


¢ß¿ÉÅäÀüÀÚ¿Í `EV GROUP`, WLO ±â¼ú Çù·Â °­È­ MOU ü°á

ÇÁ¸°Æ® ÆäÀ̽ººÏ Æ®À§ÅÍ Ä«Ä«¿À½ºÅ丮
±Û·Î¹ú ¾÷ü¿Í Çù·Â WLO ½ÃÀå È®Àå
¢ß¿ÉÅäÀüÀÚ¿Í `EV GROUP`, WLO ±â¼ú Çù·Â °­È­ MOU ü°á
¢ß¿ÉÅäÀüÀÚ(´ëÇ¥ ÀÌÁØ¿ª)´Â 'EV GROUP'°úÀÇ 'WLO(Wafer Level Optics)' ±â¼ú Çù·ÂÀ» °­È­Çϱâ À§ÇÑ ¾çÇØ°¢¼­(MOU)¸¦ ü°áÇß´Ù°í 19ÀÏ ¹àÇû´Ù.

À̹ø Çù¾àÀº ¾ç»ç°¡ º¸À¯ÇÑ WLO °ü·Ã ±â¼ú·Â°ú ³×Æ®¿öÅ©¸¦ È°¿ëÇÏ¿© WLO ¹× WLO ModuleÀÇ °øµ¿ ¸¶ÄÉÆà ¹× »ç¾÷ È®´ë ¹æ¾ÈÀ» ¸ð»öÇÑ´Ù. À̸¦ ÅëÇØ ±â¾÷ °í°´µéÀº ±¤Çбâ¼ú°ú °øÁ¤±â¼ú¿¡ ´õ¿í Á¢±ÙÇϱ⠽¬¿öÁ® ¸ÂÃãÇü WLO °³¹ß ¼­ºñ½º¸¦ ÀÌ¿ëÇÒ ¼ö ÀÖÀ» °ÍÀ¸·Î ±â´ëµÈ´Ù.

WLO(Wafer Level Optics)´Â Lithography ¹× nano-Imprint ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤À» ÅëÇØ Á¦À۵Ǵ ÃʼÒÇü Á¤¹Ð ±¤ÇкÎÇ°À¸·Î, ÇØ¿Ü¿¡¼­ÀÇ ¼öÀÔ ÀÇÁ¸µµ°¡ ³ôÀº ºÎÇ° Áß Çϳª·Î ²ÅÈù´Ù. ¢ß¿ÉÅäÀüÀÚ´Â 2018³âºÎÅÍ WLO ºÐ¾ßÀÇ ÅõÀÚ¿Í ÀÎÇÁ¶ó È®ÀåÀ» Áö¼ÓÀûÀ¸·Î ÃßÁøÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç, ±¹³»¿¡¼­´Â WLO Àü¿ë FABÀ» º¸À¯ÇÏ¿© WLO ±¹»êÈ­¸¦ ¼±µµÇÏ´Â ¼ÒÀçºÎÇ°Àåºñ Àü¹®±â¾÷À¸·Î ¼ºÀåÇÏ°í ÀÖ´Ù. ¶ÇÇÑ, 2022³â¿¡´Â ¿ì¼ö±â¼ú¿¬±¸¼Ò ÀÎÁõÀ» ȹµæÇÏ¿´À¸¸ç, 2023³â¿¡´Â ¾Æ±âÀ¯´ÏÄÜ ±â¾÷À¸·Î ¼±Á¤µÇ¾î ÁÖ¸ñ¹Þ°í ÀÖ´Ù.


ÇÑÆí, 'EV GROUP'Àº ¹ÝµµÃ¼, MEMS, È­ÇÕ¹° ¹ÝµµÃ¼, ÆÄ¿ö µð¹ÙÀ̽º, ±×¸®°í ³ª³ë±â¼úÀ» ±â¹ÝÀ¸·Î ÇÑ ¼ÒÀÚ Á¦Á¶¸¦ À§ÇÑ Àåºñ¿Í °øÁ¤ ¼Ö·ç¼ÇÀ» ¼¼°èÀûÀ¸·Î Á¦°øÇÏ´Â Àü¹®±â¾÷À¸·Î, À̹ø MOU¸¦ ÅëÇØ Çѱ¹ ³» WLO ¹× WLO ¸ðµâ ½ÃÀåÀ» ´õ¿í È®´ëÇÒ °èȹÀÌ´Ù. ÀÌ·± Çù·ÂÀ» ÅëÇØ ±¹³» WLO ½ÃÀå¿¡¼­ÀÇ °æÀï·ÂÀÌ ³ô¾ÆÁö¸ç ±¹³»¿Ü ½ÃÀå¿¡¼­ÀÇ ¼ºÀå ±âȸ¸¦ ¸ð»öÇÒ °ÍÀ¸·Î ¿¹»óµÈ´Ù.
Á¤·¡¿¬±âÀÚ fodus0202@dt.co.kr


[ ÀúÀÛ±ÇÀÚ ¨ÏµðÁöÅПÀÓ½º, ¹«´Ü ÀüÀç ¹× Àç¹èÆ÷ ±ÝÁö ]