에스앤에스텍은 차세대 반도체 및 디스플레이용 블랭크마스크를 출시했다고 23일 밝혔다.
제품은 193㎚(나노미터) 노광기에 사용되는 위상변이 마스크(PSM)와 하드필름을 적용한 하드마스크용 블랭크마스크, 박막 특성이 개선된 디스플레이용 블랭크마스크다.
블랭크마스크란 반도체 및 평판 디스플레이 패널 안에 넣는 포토 마스크의 원재료로, 패턴이 노광되기 전의 마스크를 뜻한다. 석영유리기판 위에 금속박막 필름이 증착되고 그 위에 감광액이 도포돼 회로 패턴을 넣을 수 있다.
회사측은 “최근 차세대 제품 시장 확대로 인해 미세 패턴 기술이 적용된 포토마스크의 수요가 증가하고 있어, 고사양 소재의 신제품으로 성장을 이어간다는 전략”이라며 “최근 차세대 제품 시장 확대로 인해 미세 패턴 기술이 적용된 포토마스크의 수요가 증가하고 있어 이에 맞는 고사양 소재의 신제품을 개발했다”고 말했다.
하드마스크용 블랭크마스크는 고해상도 구현이 가능한 제품으로 빛을 차광하는 필름 물질을 변경해, 패턴 회로의 정밀도를 높일 수 있는 장점이 있다.
회사측은 이번 신제품을 통해 올해 4분기 이후 연간 150억원의 신규 매출이 발생할 것으로 기대했다.
/박정일기자 comja77@dt.co.kr
제품은 193㎚(나노미터) 노광기에 사용되는 위상변이 마스크(PSM)와 하드필름을 적용한 하드마스크용 블랭크마스크, 박막 특성이 개선된 디스플레이용 블랭크마스크다.
블랭크마스크란 반도체 및 평판 디스플레이 패널 안에 넣는 포토 마스크의 원재료로, 패턴이 노광되기 전의 마스크를 뜻한다. 석영유리기판 위에 금속박막 필름이 증착되고 그 위에 감광액이 도포돼 회로 패턴을 넣을 수 있다.
회사측은 “최근 차세대 제품 시장 확대로 인해 미세 패턴 기술이 적용된 포토마스크의 수요가 증가하고 있어, 고사양 소재의 신제품으로 성장을 이어간다는 전략”이라며 “최근 차세대 제품 시장 확대로 인해 미세 패턴 기술이 적용된 포토마스크의 수요가 증가하고 있어 이에 맞는 고사양 소재의 신제품을 개발했다”고 말했다.
하드마스크용 블랭크마스크는 고해상도 구현이 가능한 제품으로 빛을 차광하는 필름 물질을 변경해, 패턴 회로의 정밀도를 높일 수 있는 장점이 있다.
회사측은 이번 신제품을 통해 올해 4분기 이후 연간 150억원의 신규 매출이 발생할 것으로 기대했다.
/박정일기자 comja77@dt.co.kr
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