네덜란드 반도체 장비 기업 ASML이 경기 화성 동탄신도시에 신규 제조 기지를 구축하고 전영현 삼성전자 디바이스솔루션(DS)부문장(부회장)과 곽노정 SK하이닉스 대표이사 사장과 접선, 반도체 협력을 강화한다.
ASML은 초미세공정 구현에 필수적인 극자외선(EUV) 노광장비를 독점 생산하고 있는 업체다.
12일 업계에 따르면 크리스토프 푸케 CEO(최고경영자)는 이날 오전 경기 화성 송동에서 열리는 ASML 화성캠퍼스 준공식에 참석한 뒤 전 부회장을 만난 것으로 알려졌다. 전날 그는 곽 사장과도 면담을 가진 것으로 전해졌다. 이날 준공한 ASML 화성캠퍼스에는 총 2400억원이 투자됐다. 이곳에는 심자외선(DUV)·EUV 노광장비 등 첨단장비 부품의 재(再)제조센터(Repair Center)와 첨단 기술을 전수하기 위한 트레이닝 센터 등도 함께 들어섰다.
반도체 업계에서는 ASML CEO가 직접 한국을 찾은 만큼 이번 회동에서 향후 EUV 공급 계획 등에 대한 논의를 한 것으로 보인다. EUV는 반도체 초미세공정 구현을 위해 반드시 필요한 대체 불가한 장비이고 만들 수 있는 대수가 한정돼 있는 만큼, 삼성전자 등 반도체 제조업체들은 EUV 확보에 사활을 걸고 있다.
네덜란드 정부는 미국의 압박에 2019년부터 EUV 노광장비의 대중국 수출을 금지했고, 최근에는 구형 장비에 대해서도 수출 시 정부 허가를 받도록 하는 등 통제를 강화하고 있는 추세다.
ASML 입장에서는 중국향 장비 수요가 제약된 상황에서 한국 메모리반도체의 중요성이 커지는 만큼, 이번 협력으로 중국 매출 감소분을 상쇄할 수 있을 것으로 본다. 일각에서는 ASML과 삼성전자, SK하이닉스가 단순 장비 거래를 넘어 첨단 반도체 공급망 재편 과정에서 새 중심축 역할을 할 것이라는 기대감도 나온다.
양사는 최근 ASML의 최첨단 'High(하이) NA 극자외선(EUV)' 장비를 반입하며 최선단 공정 기술력 강화에 나선 바 있다.
삼성전자는 올해 초 하이 NA 장비를 국내에 설치한 데 이어 연내 양산용 장비를 한 대 더 추가하기로 한 것으로 전해졌다. SK하이닉스도 지난해 9월 양산용 NA 장비를 이천 M16팹(Fab)에 반입했다.
하이 NA EUV는 기존 EUV보다 해상도를 크게 향상한 차세대 노광 장비로, 한 대당 가격이 5000억원을 넘을 정도로 고가 제품이다. 또 2나노 이하 시스템반도체와 10나노 이하 메모리 반도체 생산에 필수적으로 필요하며 연간 생산 가능 물량이 매우 적어 장비 확보를 위한 경쟁도 매우 치열한 것으로 알려져 있다.
삼성전자는 파운드리(반도체 위탁생산) 사업에서 승부를 걸고 있는 2나노 공정 성능·수율 향상에 ASML의 최첨단 장비를 먼저 투입할 계획이며, SK하이닉스도 고성능 AI 메모리 라인업 확대에 주력할 계획이다.
ASML은 화성캠퍼스를 아시아 핵심 거점으로 낙점하고 국내 반도체 산업의 공급망 안정성 강화와 기술 내재화에도 기여한다는 방침이다.
이번 화성캠퍼스 준공을 계기로 삼성전자, SK하이닉스 등 국내 반도체 기업과의 공정 협력 및 기술 교류를 강화하고, 국내 소부장(소재·부품·장비) 기업과의 연계 생태계를 구축해 한국 반도체 산업과의 상생형 협력 모델을 본격화한다는 방침이다.
강감찬 산업통상부 무역투자실장은 축사에서 "한국 반도체 산업 발전에는 지자체와 중앙정부, 국가 간의 긴밀한 협력이 중요하다"며 '오늘의 준공은 그 협력의 좋은 사례이다. 앞으로도 한국과 네덜란드 양국 간의 반도체 기술 협력과 투자가 더욱 긴밀하게 이어지기를 기대한다"고 말했다.
이상현 기자 ishsy@dt.co.kr
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