삼성반도체 산업스파이 구속 파장…與 "中 기술탈취 방지, 처벌강화해야"

前 반도체 권위자, 中 시안 삼성 반도체 공장 설계도면 유출로 구속재판
與 "삼성 반도체 공장 그대로 복제 中에 세우려…기술유출 예상 피해액만 9조 이상"
"기술유출범죄 늘어도 처벌 미온적, 제도개선을…中측 파렴치 기술탈취 멈춰야"
'수율의 달인' 등 반도체 권위자로 불리던 인물이 중국으로 삼성전자 반도체 핵심기술을 유출한 혐의로 구속기소된 것을 계기로 여당에선 "산업스파이에 대한 엄격한 처벌이 필요하다"며 제도 개선 필요성을 제기했다. 중국 산업계와 정부에 '파렴치한 기술탈취 행위 중단'을 촉구했다.

윤희석 국민의힘 대변인은 13일 논평을 통해 "삼성 반도체 공장을 그대로 복제해 중국에 세우려 했던 산업 스파이 일당이 구속돼 재판에 넘겨졌다"며 "공장의 설계 도면을 비롯해 클린룸 조성 조건, 공정 배치도 등 국가 핵심기술을 빼돌렸다는 사실만큼 충격적인 것은 해당 인물이 삼성전자 등에서 30년 이상 근무한 국내 반도체 제조 분야의 권위자라는 것"이라고 주목했다.

그는 "실제 공장이 지어지지는 않았지만 빼돌린 기술만으로도 예상 피해액이 9조원을 넘는다. 우리 기업에서 기술을 축적하며 대우받다가 한순간에 국부(國富)를 중국에 팔아먹는 사실상의 산업 간첩행위를 자행한 것"이라며 "더 큰 문제는 이런 기술 유출 범죄가 지속 증가하고 있다는 데 있다. 특히 반도체 분야에서 치열한 경쟁을 펼치고 있는 중국에서"라고 지적했다.

이어 "우리 핵심인력을 빼 가면서 우리 기업이 엄청난 돈과 시간을 투자해 쌓은 기술이 순식간에 새 나가는 일이 반복된다"며 "중국의 우리 기술 빼가기를 막지 못한다면 대한민국의 미래를 그르치고 청년세대의 일자리까지 없어지는 결과를 낳을 것이다. 중국 산업계는 타국의 기술을 탈취하는 파렴치한 행위를 즉각 중단해야 한다. 중국 정부도 마땅히 방지책을 마련해야 한다"고 촉구했다.

윤희석 대변인은 "아울러 최근 8년간 기술 유출 범죄로 징역형을 선고받은 이들 중 약 80%가 집행유예로 풀려난 만큼, 기술 유출 사건에 대한 우리의 미온적 대응에 대해 되돌아봐야 한다"며 "기술·인재 유출을 방치하고 솜방망이 처벌만 하다간 대한민국의 미래를 지켜낼 수 없다. 국민의힘과 윤석열 정부는 기술 유출 범죄에 대해 양형 기준 강화 등 법적, 제도적 장치 마련에 최선을 다할 것"이라고 밝혔다.

반도체 업계와 법조계 등에 따르면, 수원지방검찰청 방위사업·산업기술범죄수사부(부장검사 박진성)는 지난 12일 산업기술보호법 위반 등 혐의로 삼성전자 상무와 SK하이닉스 부사장 등을 지낸 기업인 최모씨를 구속 기소했다. 공범 6명은 같은 혐의로 불구속으로 재판에 넘겨졌다. 최씨는 중국 시안에 있는 삼성전자 반도체 공장을 사실상 복제한 공장을 만들기 위해 직원들에게 기술을 빼돌리라고 지시, 실제로 대거 기술유출이 이뤄진 정황이 파악됐다.

한기호기자 hkh89@dt.co.kr