미·중 무역전쟁의 불똥이 요소수를 넘어 반도체 사업까지 영향을 주기 시작하는 분위기다. 미국과 중국 간 글로벌 공급망 주도권 다툼에 한국 산업이 '새우등 터질' 수 있다는 우려가 확산되는 분위기다. 미국과 중국의 갈등 속에 한국 기업들이 희생양이 되고 있다는 우려가 나온다.
18일 로이터통신은 복수의 소식통을 인용해 SK하이닉스가 우시공장에 네덜란드 반도체 장비기업 ASML의 EUV 노광장비를 설치해 공정 첨단화를 추진하려는 계획을 세웠으나, 미국 정부의 반대를 넘을 수 있을지 불투명하다고 보도했다.
SK하이닉스는 우시공장에서 D램 제품의 절반 가량을 생산하고 있다. 이는 전 세계 D램 생산량의 15% 수준이다. 로이터는 SK하이닉스가 이 문제를 해결하지 못할 경우 비용 절감과 생산 속도 개선이라는 목표를 달성하기 힘들 것이라며, 삼성전자와 미국 마이크론 등의 경쟁에서 불리한 입장에 놓일 수 있다고 분석했다.
로이터통신은 미국 정부가 SK하이닉스의 중국 EUV 장비 반입을 허용했는지 여부에 대해선 구체적으로 언급하지 않았다고 전했다. 다만 로이터는 "바이든 행정부가 최첨단 반도체 제조 개발이 중국 군대를 현대화하는 데에 도움이 될 것으로 판단, 미국 및 동맹국의 기술을 중국이 사용하는 걸 막는 데에 초점을 맞추고 있다"며, 미국의 입김이 작용했을 가능성을 언급했다.
미국은 중국에 첨단 반도체 장비가 도입되면 중국의 군사력 강화로 이어질 수 있다고 우려해 이를 차단해 왔다. 대표적인 것이 반도체 초미세공정에 활용되는 EUV 장비로, 미국은 트럼프 행정부 시절 ASML이 독점 생산하는 이 장비가 중국에 반입되지 못하도록 로비를 펼쳐 왔고, 바이든 행정부 역시 유사한 입장으로 알려져 있다.
최근 인텔도 이 같은 미국 정부의 기조 때문에 중국 청두 공장에서 반도체 생산을 확대하려는 계획을 최근 변경한 것으로 알려졌다. 외신들은 바이든 정부가 보안 위협을 근거로 이 같은 인텔의 계획에 반대했다고 보도했다.
SK하이닉스는 국내에서도 EUV 장비를 활용한 D램 생산이 막 시작된 만큼, 중국 공장에 실제 도입까지 시간이 많이 남았다는 입장이다. SK하이닉스는 지난 7월부터 국내 이천 M16 팹에서 1개 레이어에 EUV 장비를 적용한 10나노급 4세대(1a) D램을 양산 중이며, 중국에서는 그보다 미세공정 수준이 낮은 범용 제품 위주로 생산하고 있다.
SK하이닉스 관계자는 이에 대해 "EUV 장비는 국내 도입도 아직 극초기이며, 중국 우시 도입까지는 시간이 많이 남아 있다"며 "국제규범을 준수하면서 중국 우시 공장을 지속 운영하는 데 문제없도록 노력하겠다"고 말했다.