"3나노로 미세공정 한계 돌파" AI·5G 등 신사업 집중 육성 시스템반도체 세계1위 재확인
이재용(왼쪽) 삼성전자 부회장이 2일 화성사업장 내에 있는 반도체연구소를 방문해 직원들과 인사하고 있다. 삼성전자 제공
이재용 삼성전자 부회장
[디지털타임스 박정일 기자] 이재용 삼성전자 부회장이 새해 첫 경영행보로 미래 반도체 개발 현장을 찾았다. 이 부회장은 현장에서 "역사는 만들어가는 것"이라며 새로운 미래를 열어줄 것을 당부했다.
2일 삼성전자에 따르면 이 부회장은 이날 화성사업장 내에 있는 반도체연구소를 찾아가 세계 최초로 개발한 '3나노 공정기술' 내용에 대해 보고받고 DS(디바이스솔루션)부문 사장단과 차세대 반도체 전략을 논의하고 이 같이 밝혔다. 삼성전자 측은 "이 부회장이 새해 첫 경영행보를 반도체 개발 현장에서 시작한 것은 메모리에 이어 시스템반도체 분야에서도 세계 1위가 되겠다는 비전을 다시 한번 임직원과 공유하며 목표달성 의지를 다진 것"이라고 의미를 부여했다.
반도체 미세화의 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술인 'GAA(Gate-All-Around)'를 적용한 3나노 반도체는 최근 공정개발을 완료한 5나노 제품과 비해 칩 면적을 약 35% 이상 줄일 수 있다. 소비전력을 50% 감소시키면서 성능(처리속도)은 약 30% 향상시킬 수 있는 제품이다.
삼성전자의 GAA 기술은 파운드리(반도체 위탁생산) 세계 1위인 TSMC보다 1년, 인텔과는 2~3년 더 앞서 있는 것으로 알려졌다. 이 부회장은 앞서 작년 4월 133조원에 이르는 대규모 투자계획을 내놓으면서 오는 2030년까지 비 메모리반도체에서 세계 1위를 달성하겠다는 포부를 내놓은 적이 있다.
삼성전자는 이미 파운드리와 이미지센서 등 일부 비메모리 반도체 시장에서 세계 2위 수준의 경쟁력을 갖췄다. 여기에 인공지능(AI)과 5G(5세대 이동통신) 등을 집중 육성해 메모리에 이어 시스템반도체 영역에서도 세계 1위를 달성하겠다는 목표다.
2일 서울 중구 대한상공회의소에서 경제계 인사들이 정부 신년합동인사회에 참석해 이야기를 나누고 있다. 오른쪽부터 이재용 삼성전자 부회장, 정의선 현대자동차 수석부회장, 구광모 LG그룹 회장, 최태원 SK그룹 회장. 연합뉴스
이 부회장은 이에 앞서 문 대통령이 서울 중구 대한상의회관에서 주최한 신년회에도 참석하는 등 새해 첫 업무일부터 숨가쁜 총수 업무를 수행했다. 그는 재판, 인사 등과 관련 취재진의 질문엔 답하지 않았다.
한편 삼성전자 대표이사를 맡고 있는 김기남 부회장은 이날 수원 삼성 디지털 시티에서 시무식을 하고 "새로운 미래를 위한 성장과 도약의 해로 만들자"며 "최고의 제품과 서비스로 인류사회에 공헌한다'는 전자의 경영이념 아래, 선대의 전통과 자산을 계승·발전하고 창의성과 혁신성을 접목해 미래 성장동력을 확보하자"고 당부했다.
박정일기자 comja77@dt.co.kr
