韓·中, 내년부터 `특허공동심사` 운영

특허 취득 기간 단축 등 효과
한국과 중국에서 고품질 특허를 서로 빠르게 취득할 수 있는 길이 열린다.

특허청은 박원주 청장이 30일 서울 그랜드워커힐 호텔에서 션창위 중국 국가지식산권국장과 회담을 갖고, 양국 지재권 협력을 확대하기 위한 다양한 협력사업을 추진키로 합의했다고 밝혔다. 이에 따라 한·중 간 특허공동심사프로그램(CSP)이 내년 1월 1일부터 시행된다.

CSP는 우리나라와 중국 양국에 같은 발명이 출원되면, 특허 여부를 판단하는 선행기술정보를 양국 심사관들이 공유하고, 다른 출원건보다 우선해 심사해 준다. 이를 통해 심사결과의 정확성과 일관성을 높일 수 있고, 양국에 출원된 특허는 빠르게 등록돼 보호받을 수 있게 된다. 현재 CSP를 시행하는 국가는 한국과 미국, 미국과 일본 등이다.

양국 청장은 이와 함께 상표분야와 지재권 보호 분야의 협력체계를 새롭게 구축키로 했다. 이는 중국 정부의 조직개편으로 지재권 총괄 기능이 중국 지식산권국으로 일원화됨에 따라 이뤄진 것이다.

이를 위해 양국은 상표 전문가 회의와 지재권 보호 전문가 회의를 새로 운영한다. 두 회의는 상표권 등록과 지재권 보호 정책 등 양국의 관심사를 다루는 협의체 역할을 하게 된다.

아울러 상표심사와 관리에 필수적 정보인 상표공보 데이터와 유사군 코드 대응표 교환에도 합의해 양국 기업 간 상표권 관리와 보호에 큰 도움이 될 것으로 기대된다.지난해 한국이 중국에서 출원한 상표는 1만6000건에 달하고, 중국에서 한국에서 출원된 건수는 4만9000건에 이르는 등 매년 20% 이상의 증가세를 보이고 있다.

박원주 특허청장은 "중국의 우리 최대 교역 파트너로 국내 기업의 지재권 보호 수요가 높은 국가"라며 "양국 기업들이 더 편리하게 권리를 획득하고, 획득한 권리는 더 강하게 보호받을 수 있도록 협력체계를 구축하겠다"고 말했다.

대전=이준기기자 bongchu@