NI "반도체 테스트 시스템 SMU 집적도, 6배 향상"

계측 솔루션 기업 내쇼날인스트루먼트(NI)는 고집적도 소스 측정 장치(SMU) PXIe-4163을 31일 발표했다.

이 제품은 테스트 RF, 미세전자기계시스템(MEMS), 혼합 신호와 기타 아날로그 반도체 부품을 테스트하기 위한 제품이다. NI는 이번 제품 발표를 통해 기존 SMU보다 채널 집적도를 6배 높였다.

채널 집적도가 향상된 SMU는 애플리케이션의 병렬 처리 기능을 높이고, 즉시 생산 가능한 폼 팩터의 연구개발(R&D) 등급 측정 품질을 높인다는 게 NI의 설명이다.

에릭 스타크로프 NI 글로벌 세일즈·마케팅 부사장은 "5G, 사물 인터넷(IoT), 자율주행차처럼 획기적인 기술로 인해, 반도체 생산업체는 개발에서 양산에 이르기까지 더 효율적인 반도체 테스트 방식을 발전시키고 도입해야 하는 부담을 안고 있다"며 "반도체 테스트는 NI가 전략적으로 주력하는 분야로 반도체 제조업체가 당면 과제를 해결할 수 있도록 소프트웨어 플랫폼과 PXI의 기능을 확장하고 있다"고 말했다.

임성엽기자 starleaf@dt.co.kr