국내 반도체 공정기술, 사상 첫 국제 표준 채택

국내 반도체 공정기술이 사상 처음으로 국제표준으로 채택됐다. 향후 국내 반도체 업계도 주요 국가들과 표준화 경쟁대열에 어깨를 나란히 할 전망이다.

14일 한국반도체산업협회(KSIA)와 국제반도체장비재료협회(SEMI)는 지난 수십 년간 북미, 일본이 선점한 반도체 공정 표준 분야에서 국내 반도체 공정 기술이 국제표준(SEMI E5-0712)으로 채택됐다고 밝혔다.

최근 반도체 분야뿐만 아니라 각종 하이테크 산업은 기술력 우위와 함께 표준화 선점이 경쟁력 확보의 핵심요소로 부각되고 있다. 하지만 국내의 경우, 세계 최고 수준의 반도체 공정기술을 보유한데 비해 표준화 활동은 미미했다. 현재 반도체 공정에 사용되는 850여개 SEMI 국제표준 중 국내에서 제정한 표준은 한건도 없었다.

이에 KSIA와 SEMI는 2008년부터 삼성전자와 SK하이닉스를 중심으로 국내 반도체 장비업계와 공정분야 표준화 활동에 박차를 가하기 시작했다. 4년여의 표준개발 노력 끝에 국제 표준 제정에 성공, 국제 표준 주도를 위한 첫 발을 내딛었다는 평가다.

이번에 선정된 국제표준 SEMI E5-0712는 반도체 장비 간 통신 규격에 관한 것으로 반도체 제조 팹 자동화에 필수적인 소프트웨어 분야 표준이다. 팹 자동화 설비변경 시 발생하는 장비간 통신오류를 낮춰 장비 간 통신 편의성을 높인 것이 특징이다.

이번 표준 제정은 KISA에서 지식경제부 산업융합원천기술개발사업으로 수행중인 `차세대 반도체 장비 및 소자 표준화 기술개발 과제' 일환으로 추진됐다. 향후 지경부와 KSIA는 국내 장비업체 의견을 반영한 국제표준 개발활동을 지속적으로 지원한다는 계획이다.

강승태기자 kangst@