최첨단 포토마스크 식각시스템 선보여

반도체 및 태양광 장비업체 어플라이드머티어리얼즈는 최첨단 포토마스크 식각기술을 적용한 '어플라이드 센추라 테트라 EUV(Applied Centura Tetra™ EUV)' 시스템을 선보인다고 20일 밝혔다.

포토마스크는 회로 패턴을 웨이퍼에 인쇄하는 리소그래피 공정 시 웨이퍼에 전사시키고자 하는 집적회로의 원판으로 이번 장비에는 13.5 나노미터 파장을 사용한 회로 기판 투영 방식의 극자외선(EUV) 포토마스크 기술을 적용, 차별화를 꾀했다고 회사측은 설명했다.

회사 관계자는 "이번 시스템에 적용된 최첨단 기술은 독보적인 정밀성과 무결점에 가까운 성능으로 식각 기술의 한계를 뛰어넘었다"면서 "이 기술은 고성능 반도체 칩 제조시 새로운 소재 및 복잡한 레이어 구조상에서의 식각을 가능하게 하는 동시에 패턴의 정확도를 높여 발생할 수 있는 결함을 최소화하면서 높은 수율 및 생산성을 실현한다"고 말했다.

이홍석기자 redstone@