전기연, 원통형 나노패턴 인쇄장비 개발

대면적의 반도체 및 LCD 등의 기판이나 태양전지 등에 나노 수준의 패턴을 정밀하게 인쇄할 수 있는 기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다.

한국전기연구원(원장 유태환) 산업연구본부 오현석 박사팀은 상진미크론, 쓰리에스엠케이, 뉴옵틱스 등과 공동으로 회로나 차세대 디스플레이, 태양전지 등의 대면적 나노ㆍ마이크로 패턴의 인쇄가 가능한 금형을 제작할 수 있는 `원통형 나노노광 장비와 플라즈마 식각장비 및 일괄공정 기술'을 개발하는데 성공했다고 31일 밝혔다.

이 기술은 자기부상기술 및 전자빔을 결합한 신개념 원통형 나노노광장비와 플라즈마 기술을 이용한 원통형 나노식각장비를 이용해 원통 금형 표면에 나노 구조물을 제작할 수 있도록 개발한 것이 특징이다. 이를 위해 연구팀은 자기부상기술을 진공에서 원통형 금형소재를 띠워 나노미터급으로 회전 이송시키면서 전자빔으로 가공하는 나노 노광장비를 개발했다. 또 플라즈마 기술을 이용해 원통형 나노식각장비도 개발했다.

이 기술을 활용하면 도체 생산과정에서 회로패턴을 그리는 노광 공정없이 나노미터급 패턴을 대량 인쇄할 수 있어 공정비용 및 생산단가를 낮출 수 있다. 또한 차세대 시스템 반도체, 디스플레이용 고휘도 광학필름 소자, 차세대 태양전지 소자 등을 양산하는데 적용이 가능할 것으로 예상되고 있다.

연구팀은 관련 기술에 대한 12건의 국내외 특허를 출원했으며 관련 장비를 출시할 예정이다.

오현석 박사는 "생산성과 효율이 제한적인 평판 인쇄기술 대신 원통형 나노금형을 이용한다면 향후 반도체, 디스플레이 양산에 획기적인 변화를 가져올 것"이라고 "현재 평판형 전자인쇄 장비분야의 미국기업인 바스텍이 공동회사 설립을 제안하는 등 많은 관심을 보이고 있다"고 말했다.

한편 전기연은 이날 서울 한국과학기술회관에서 `원통형 나노금형 제작기술'에 관한 연구성과 발표회를 갖고 관련 기술을 선보였다.

이준기기자 bongchu@