콜로이드 다층구조 이용 반사방지막 신기술 개발

광주과기원 김동유교수팀


디스플레이 소자ㆍ태양전지 등에 널리 쓰이는 반사방지막(antireflection coating)을 콜로이드 구조를 이용해 제조하는 새로운 기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다.

광주과학기술원(K-JISTㆍ원장 나정웅)은 30일 신소재공학과 김동유 교수팀이 빛의 투과 손실을 줄이기 위해 소자 표면에 붙이는 반사방지막을 기존 방식과 달리 콜로이드 다층구조를 이용해 제조하는데 성공했다고 밝혔다.

이에 따라 지금까지 반사방지막을 제조할 때 사용되던 식각 공정 등 특별한 장비를 쓰지 않아도 돼 생산비용을 절감할 수 있을 뿐 아니라 관련 분야의 응용 범위를 확대할 수 있다고 광주과기원 측은 설명했다.

김 교수팀이 개발한 반사방지막은 여러 가지 크기의 고분자 콜로이드를 크기 순으로 쌓은 것으로, 음전하를 가진 콜로이드층 구조간의 점착력을 높이기 위해 양전하를 띠는 고분자 전해질을 콜로이드 표면에 선택적으로 도입했다.

김동유 교수는 "새로운 기술은 콜로이드 크기나 층수조절을 통해 필름의 표면 형태를 조절하고 효율 높은 반사방지막을 유도하는 것"이라며 "적용결과 기판 전체에서 빛 투과율 증가가 확인됐다"고 말했다.

이와 관련, 김 교수팀은 지난 21∼25일 미국 샌프란시스코에서 열린 미 재료학회(MRS) 2003년 춘계학술대회에서 `콜로이드 다층구조를 이용한 반사방지막 제조와 특성` 이란 논문을 발표, 포스터상(Poster Award)을 수상했다.

강희종기자