감광제분야 특허 중소기업이 주도

국내 기업들이 반도체 가공용 필수 화학재료인 감광제 분야에서 경쟁적으로 특허 기술을 개발, 출원하고 있다.

특허청이 이달 초 발표한 자료에 따르면 1986년까지 미미했던 국내 감광재 관련 특허 출원이 1990년부터 증가하기 시작하면서 최근 국내 감광제 특허 출원 분야에서 내국인의 출원비율이 외국인의 출원비율을 뛰어넘은 것으로 나타났다.

특히 반도체 산업발달로 인한 대기업의 반도체 재료에 대한 관심이 증가하면서 1995년부터 1999년까지는 삼성전자, 하이닉스 반도체, 금호석유화학등 대기업들이 기술 특허 출원을 하는데 주도적인 역할을 했으나 지난해까지 최근 3년간은 동진세미켐, 동우화인켐등 중소기업들이 내국인 특허 출원 증가에 큰 역할을 하고 있다고 이번 조사를 진행한 특허청 김현숙 사무관은 밝혔다.

반도체의 집적도가 증가함에 따라 웨이퍼상에 보다 정밀한 패턴을 그리기 위해서는 각각의 레이저 파장에 반응할 수 있는 감광 물질 개발이 필수적이어서 국내 관련 업체들도 감광재료 개발에 주안점을 두고 있다는 설명이다.

대기업의 관심 증가로 내외국인의 관련 기술 특허가 50대 50으로 올라간데 이어서 최근 국내 특허 출원 비율이 외국인 특허출원을 뛰어넘은 것은 이들 중소기업의 적극적인 기술 개발및 관련 특허 출원에 힘입은 바가 크다는 것이다.

특히 1980년대 국내 감광제 특허 출원은 일반 필름용 감광제를 취급했던 새한, 코오롱, 효성등이 주도했지만 1995년 부터는 삼성전자,하이닉스가 뛰어들면서 거의 반도체 관련 업체들이 감광제 특허출원을 주도하고 있는 것으로 나타나고 있다.

웨이퍼 표면에 도포된 감광제는원판의 각종 회로도등 설계 패턴을 축소렌즈를 통해 웨이퍼에 나타나하는 인화지와 같은 역할을 한다. 또 이후 공정에서 필요없는 부분을 식각(etching) 하면서 발생하는 각종 화학가스에 대한 보호막 역할을 하기도 한다.

동진세미켐의 지적재산팀 관계자는 “최근 3년간 국내 특허출원 수를 10건, 20건, 30여건으로 꾸준히 늘리고 있으며 국내 출원과 동시에 국제특허출원조약(PCT)에도 신청한 뒤 해외 출원도 각 나라별 시장을 봐가며 진행하고 있다”고 밝혔다.

〈허정화기자〉