'시스템 반도체 1위' 목표 한발 더
초미세 공정기술 적용 범위 확대
초미세 공정기술 적용 범위 확대
[디지털타임스 박정일 기자] 이재용 삼성전자 부회장이 코로나19에 따른 실적악화 위기에도 '2030년 시스템반도체 세계 1위' 달성을 위한 '초격차' 투자에 가속도를 붙였다. 평택에 초미세공정 파운드리(반도체 위탁생산) 생산라인을 구축해 2030년 글로벌 시스템 반도체 시장 1위를 달성하는 '반도체 비전 2030' 목표에 한 발 더 다가선다는 계획이다.
삼성전자는 EUV(극자외선) 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 파운드리 생산 시설을 구축한다고 21일 밝혔다. 이를 위해 이달 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며, 2021년 하반기부터 본격 가동할 계획이다.
EUV 노광 기술은 파장이 짧은 극자외선 광원으로 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술로, 기존 공정으로는 할 수 없는 초미세 회로 구현이 가능하다. 현재 세계 파운드리 시장은 대만의 TSMC가 압도적인 1위 자리를 지키고 있으며 삼성이 2위 자리에서 추격하는 양상이다.
삼성전자는 올해 2월 EUV 전용 화성 'V1 라인' 가동에 이어 평택까지 파운드리 라인을 구축하며 모바일, HPC(하이 퍼포먼스 컴퓨팅), 인공지능(AI) 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대한다는 방침이다. 세부적인 투자규모를 밝히진 않았지만, 업계에서는 대략 10조원 안팎이 될 것으로 추정하고 있다. 이번 투자는 지난해 4월 이 부회장이 2030년까지 133조원을 투자해 시스템 반도체 1위 자리를 차지하겠다고 밝힌 '반도체 비전 2030'의 일환이다. 이와 관련, 이 부회장은 "어려울 때일수록 미래를 위한 투자를 멈춰서는 안된다"며 시스템 반도체 1위를 향한 지속적인 투자 의지를 밝혔다.
삼성전자는 2019년 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노(㎚) 양산을 시작한 이후, 2020년 V1 라인으로 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해 왔다. 여기에 2021년 평택 라인이 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 더욱 가파르게 증가할 전망이다.
삼성전자는 생산성을 더욱 극대화한 5나노 제품을 올해 하반기에 화성에서 먼저 양산한 뒤, 평택 파운드리 라인에서도 주력 생산할 예정이다.
정은승 삼성전자 DS부문 파운드리사업부 사장은 "5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것"이라며 "전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것"이라고 말했다.
박정일기자 comja77@
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