현장서 해답 찾는 이재용 "한계라 생각될 때 벽을 넘자"

이재용, 코로나 사태에도 미래투자
반도체 사업 직접 챙기는 현장경영
독보적인 미세공정 경쟁력 등 갖춰
차세대 시스템의 탑재 비중도 확대

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현장서 해답 찾는 이재용 "한계라 생각될 때 벽을 넘자"
이재용(오른쪽) 삼성전자 부회장이 지난 19일 삼성디스플레이 아산사업장에서 제품을 살펴보고 있다.

삼성전자 제공

현장서 해답 찾는 이재용 "한계라 생각될 때 벽을 넘자"
삼성전자가 업계 최초로 EUV 공정을 적용해 생산한 1세대 10나노급(1x) DDR4(Double Data Rate 4) D램 모듈.

<삼성전자 제공>


세계 첫 'EUV 적용 D램 양산' 성공

[디지털타임스 박정일 기자] 이재용 삼성전자 부회장의 반도체 '초격차' 전략이 또 한번 빛을 발했다. 25일 EUV(극자외선노광장치) 공정을 세계 최초로 주력 메모리반도체 제품인 D램에 적용해 양산하는 쾌거를 이뤄낸 것이다.

특히 EUV 전용 라인은 이 부회장이 올 초 직접 찾아가 직접 진행상황을 살펴볼 만큼 각별하게 챙긴 사업이다. 2030년 시스템반도체 세계 1위 달성은 물론 메모리 '초격차'의 핵심 사업이기 때문이다.

이 부회장은 인공지능과 5세대 이동통신(5G), 자율주행 분야의 고성능·저전력 반도체 개발에 필요한 EUV 기술 연구에 큰 관심을 갖고 챙겨왔다. 신종 코로나바이러스 감염증(코로나19) 사태 이후에도 현장경영 행보를 계속하며 미래 성장 사업에 대한 투자를 멈추지 말 것을 당부했다.

업계에서는 삼성전자가 EUV 공정 양산을 본격화 하면서 경쟁사와의 격차를 한층 더 벌릴 것으로 보고 있다. SK하이닉스도 EUV를 들여와 D램을 개발 중이고 2021년 초 1a급 도입을 목표로 개발 작업을 진행 중이지만, 실제로 양산 가동에 성공한 것은 삼성전자 뿐이기 때문이다.

삼성전자는 내년에 성능과 용량을 더욱 높인 4세대 10나노급(1a) D램(DDR5, LPDDR5)을 양산하고, 5·6세대 D램도 선행 개발해 프리미엄 메모리 시장에서의 기술 리더십을 더욱 강화해 나간다는 전략이다. 예정대로면 2위인 SK하이닉스와는 약 1년 안팎, 올 초에 3세대(1z) 급 양산을 시작한 마이크론과는 그 이상 미세공정 경쟁력의 차이를 벌릴 것으로 보인다.

시장조사업체 옴디아에 따르면 작년 3분기 말 기준으로 D램 시장에서 삼성전자의 점유율은 44.4%에 이르고, 그 뒤를 SK하이닉스(28.1%), 마이크론(22.1%)이 잇고 있다. 삼성전자와 마이크론 간 점유율 차이는 작년 1분기 15.3%포인트에서 반년 만에 22.3%포인트까지 벌어졌다.

이정배 삼성전자 메모리사업부 DRAM개발실 부사장은 "업계 최초로 EUV 공정을 D램 양산에 적용해 글로벌 고객들에게 더욱 차별화된 솔루션을 한발 앞서 제공할 수 있을 것"이라며 "내년에도 혁신적인 메모리 기술로 차세대 제품을 선행 개발해 글로벌 IT 시장이 지속적으로 성장하는데 기여할 것"이라고 말했다.

삼성전자는 내년부터 DDR5·LPDDR5 D램 시장의 본격 확대에 맞춰 글로벌 IT 고객과 기술협력을 강화하고, 업체간 다양한 표준화 활동을 추진해, 차세대 시스템에서 신제품 탑재 비중을 지속적으로 높여 나갈 예정이다.

또 올해 하반기 평택 신규 라인을 가동해 증가하는 차세대 프리미엄 D램 수요에 안정적으로 대응할 수 있는 양산 체제를 구축할 계획이다.

업계에서는 EUV를 도입했을 경우 멀티패터닝(회로를 새기는 작업을 반복해 미세공정을 구현하는 방식) 과정을 줄일 수는 있지만, 한 대에 수천억원에 이르는 EUV의 가격 등을 고려했을 때 과연 어느정도 생산 효율성을 높일 수 있을지에 대해서는 갑론을박이 나왔었다. 그러나 삼성전자는 "EUV를 이용해 만든 4세대 10나노급(1a) D램이 1세대 10나노급(1x) D램보다 12인치 웨이퍼당 생산성을 2배 높여 사업 경쟁력을 강화할 수 있다"고 밝히며, 그 효과를 처음으로 증명했다.

이 같은 초격차는 "한계에 부딪혔다고 생각될 때 다시 한번 힘을 내 벽을 넘자"는 이 부회장의 경영전략에 따른 결과물로 풀이된다. 이 부회장은 이날 경기도 수원시에 있는 삼성종합기술원을 찾아가 차세대 인공지능(AI) 반도체와 소프트웨어 알고리즘, 양자 컴퓨팅 기술, 미래 보안기술, 반도체·디스플레이·전지 혁신 소재 등 선행 기술에 대해 논의했다. 사회적 문제인 미세먼지 해결을 위해 지난해 설립한 미세먼지 연구소의 추진 전략도 살펴봤다.

이 부회장은 이 자리에서 "어렵고 힘들 때일수록 미래를 철저히 준비해야 한다. 국민의 성원에 우리가 보답할 수 있는 길은 혁신"이라며 "한계에 부딪혔다고 생각될 때 다시 한번 힘을 내 벽을 넘자"고 강조했다.

이 부회장은 인공지능과 5세대 이동통신(5G), 자율주행 분야의 고성능·저전력 반도체 개발에 필요한 EUV 기술 연구에 큰 관심을 갖고 챙겨왔다. 회사 측은 "이 부회장의 관심과 임직원들의 노력으로 EUV 공정 기술 기반의 사업 성과가 점차 가시화하고 있다"고 설명했다. 한편 이 부회장은 지난 19일 삼성디스플레이 아산사업장, 3일 삼성전자 구미사업장을 방문하는 등 이달 들어 3차례나 코로나19 위기에 대응하는 현장 경영을 했다. 올해 들어서는 1월 화성사업장 반도체 연구소와 브라질 마나우스, 2월에 세계 첫 EUV(극자외선노광장치) 전용 생산기지인 V1 라인 방문까지 총 6차례에 이르는 현장경영 행보를 이어가고 있다.

박정일기자 comja77@dt.co.kr

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