삼성의 초격차… 세계 첫 EUV 적용 D램 양산

모듈 100만개 고객 평가 완료
이재용 부회장 성장의지 결과

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삼성의 초격차… 세계 첫 EUV 적용 D램 양산
이재용 삼성전자 부회장. <삼성전자 제공>

[디지털타임스 박정일 기자] "한계에 부딪혔다고 생각될 때 다시 한번 힘을 내 벽을 넘자." 이재용 삼성전자 부회장은 25일 삼성의 미래를 준비하는 심장 격인 삼성종합기술원을 방문해 이 같이 강조했다.

그리고 삼성전자는 이날 업계 최초로 EUV(극자외선노광장치) 공정을 적용한 D램 양산의 첫 포문을 열었다. 생산성과 품질을 기존보다 2배 가량 '퀀텀 점프' 할 수 있는 차세대 공정으로, 코로나 19 속에서도 '혁신·도전'을 강조했던 이 부회장의 미래 성장 의지를 보여주는 대목이다.

삼성전자는 업계 최초로 EUV 공정을 적용, 생산한 1세대 10나노급(1x) DDR4((Double Data Rate 4) D램 모듈 100만개 이상을 공급해 고객 평가를 완료했다고 밝혔다. 이에 따라 삼성전자는 차세대 D램 제품부터 EUV 공정을 전면 적용할 계획이라고 설명했다.

EUV 공정은 포토공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 것으로, 이 기술을 적용하면 멀티 패터닝 공정을 줄이고 정확도를 높여 성능과 수율을 향상, 제품 개발 기간을 단축할 수 있다.

현재 회사는 EUV 공정으로 14나노 초반대 4세대 10나노급(1a) D램 양산 기술을 개발하고 있다. 양산에 성공하면 1x D램보다 12인치 웨이퍼당 생산성을 2배 높일 수 있다. 내년에는 1a D램(DDR5·LPDDR5)을 양산하고 5세대, 6세대 D램도 선행 개발해 메모리 시장 '초격차'를 이어가겠다는 전략이다.

한편 이 부회장은 이날 경기도 수원시에 있는 삼성종합기술원을 찾아 신기술 연구·개발 현황을 보고 받고 차세대 미래 기술 전략을 점검했다. 이 부회장과 임직원들은 차세대 인공지능(AI) 반도체와 소프트웨어 알고리즘, 양자 컴퓨팅 기술, 미래 보안기술, 반도체·디스플레이·전지 혁신 소재 등 선행 기술에 대해 논의했다.

박정일기자 comja77@

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