[디지털타임스 박정일 기자] 일본의 추가 반도체 수출규제 가능성이 커지면서 삼성전자의 2030년 시스템반도체 1위 달성 계획에 '빨간불'이 켜졌다. 이재용 삼성전자 부회장이 제시한 '반도체 비전 2030'의 핵심 공정인 화성캠퍼스의 EUV(극자외선노광장비) 라인이 일본 수출 규제의 직격탄을 맞을 가능성이 높아지고 있어서다.
실제로 이미 규제가 확정된 EUV용 포토리지스트(PR)는 일본 외에 대체 가능한 업체가 없고, 추가 규제 가능성이 제기된 블랭크 마스크 역시 EUV용 제품을 일본 업체가 독점하고 있는 것으로 알려졌다.
11일 업계에 따르면 일본이 '화이트(백색) 국가' 명단에서 한국을 제외할 경우 추가로 규제할 가능성이 높은 반도체 관련 품목은 집적회로(IC), 전력반도체(PMIC), 리소그래피 장비, 이온주입기, 웨이퍼, 블랭크 마스크 등이 꼽힌다. 이는 일본 수출 규제의 주요 근거로 작용하고 있는 '수출무역관리령'의 통제대상품목(1∼15항)에 포함된 제품들이다.
이중 웨이퍼와 블랭크 마스크는 일본 업체의 시장 점유율이 매우 높은 것으로 알려져 있다. 특히 블랭크(blank) 마스크는 노광 공정에 사용되는 포토마스크의 원재료로, 반도체 공정이 미세화하며 그 중요성이 더욱 커지고 있다.
삼성전자가 주력하고 있는 EUV 기술은 7나노 이하 세계 최고 수준의 미세 공정에 적합한 기술로, 국내에서 생산하는 블랭크 마스크로는 일본의 첨단 제품을 대체할 수 없다는 게 업계 분석이다. 도현우 NH투자증권 연구원은 "EUV용 블랭크 마스크는 일본 호야가 독점 생산 중"이라며 "국내 에스앤에스텍 등의 블랭크 마스크는 글로벌 업체 대비 기술력이 다소 부족하다"고 설명했다.
반도체 회로선을 그리는 역할을 하는 포토리지스트의 경우도 공정 중 종류별로 여러 층이 도포되는데, 핵심층에 사용되는 제품은 기술적으로 앞서있는 일본 제품으로 알려져 있다. EUV용 포토리지스트는 일본의 JSR, 신에츠 등이 공급하고 있으며, 국내 동진쎄미켐 등은 아직 개발 중이다.
다만 EUV라인의 본격적인 가동은 내년부터 본격적인 가동을 예고하고 있어, 당장 실적에 미치는 영향은 미미한 것으로 알려졌다.
문제는 이 같은 상황이 장기화 될 경우 삼성전자의 시스템반도체 1위 계획에 큰 차질이 생긴다는 것이다. 업계 관계자는 "삼성전자의 핵심성장산업 중 하나가 시스템 반도체고, 이를 이끄는 기술이 EUV"라며 "사태가 장기화해 문제가 생기면 대한민국 반도체의 미래가 멈추는 것"이라고 말했다.
EUV의 경우 삼성전자의 파운드리(반도체 위탁생산) 미세공정의 핵심 기술이다. 7나노 이하 대부분의 공정에 EUV를 적용하고, 이를 바탕으로 팹리스(반도체 설계업체)와의 상생발전을 이끈다는게 삼성전자의 계획이었다. 하지만 EUV 공정이 제대로 가동하지 못하면, 시스템반도체는 물론 차세대 D램 생산에도 차질이 생긴다.
한편 일본이 수출 규제 품목을 추가로 지정할 경우 기존 3가지 품목과 마찬가지로 개별허가를 거쳐야 해 통상 90일 정도의 심사 기간이 소요된다.박정일기자 comja77@dt.co.kr
